行業(yè)挑戰
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01單缺陷連鎖放大風(fēng)險:光罩存在任一缺陷,都會(huì )批量復制至上千篇晶圓,相比晶圓缺陷,對成品良率造成的影響更為嚴重
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02大尺寸高密度檢測要求嚴苛:掩模版型尺寸大、線(xiàn)路圖案排布密集,檢測設備需具備高靈敏度與高缺陷捕獲能力
解決方案
隨著(zhù)半導體制程精度持續升級,行業(yè)對光罩 CD 關(guān)鍵尺寸量測的重復性、穩定性,以及微小缺陷的檢出能力提出了極致要求。天準針對光罩制程打造覆蓋 CD 量測與缺陷檢測的一體化解決方案,覆蓋關(guān)鍵尺寸量測、缺陷檢測全流程,適配高端光罩智能化、潔凈化量產(chǎn)需求。
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CD 量測端:MT270UV 依托 UV 光學(xué)檢測能力,可完成 9 寸及以下光罩的高精度尺寸量測,CD 量測重復性可達 1.5 nm;DaVinci 270UV 為全封閉全自動(dòng)機型。
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缺陷檢測端:SPECTOR(SPECTOR-M/A/5500)專(zhuān)注于光罩缺陷檢測,支持 die-to-die 比對或標準圖像比對,可穩定檢出 0.8 μm 以上缺陷,最大可兼容 14 寸大尺寸光罩檢測。CD 量測重復性?xún)?yōu)于 2 nm,典型值優(yōu)于 1 nm,檢測精度優(yōu)異。同時(shí)配備 SMIF、SECS/GEM 協(xié)議及全自動(dòng)搬運,滿(mǎn)足潔凈環(huán)境智能化制造需求。
方案優(yōu)勢
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高精度量測:CD 量測重復性低至 1 nm
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靈活易用:具備 GDS 功能,免 Recipe 缺陷比對,支持 SMIF 與全自動(dòng)搬運
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成熟穩定可靠:低 COO、易維護、無(wú)短周期消耗品,長(cháng)期穩定